27 de julio

Actualizado: hoy a las 10:03 am

News

China comienza a fabricar herramientas DUV propias para producción de chips, reporta The Information

27 jul (Reuters) - China ha comenzado a fabricar máquinas ‌de litografía por inmersión en ultravioleta profundo desarrolladas a nivel nacional, una herramienta clave para la ​fabricación de chips que durante mucho tiempo...

Publicado el 27 de julio de 2026 a las 09:31

2 MIN DE LECTURA

27 jul (Reuters) - China ha comenzado a fabricar máquinas ‌de litografía por inmersión en ultravioleta profundo desarrolladas a nivel nacional, una herramienta clave para la ​fabricación de chips que durante mucho tiempo ha estado dominada por el proveedor holandés ASML, reportó el lunes The Information.

Las máquinas se entregarían este año a los principales fabricantes chinos ​de chips, entre los que se incluyen Semiconductor Manufacturing International Corp, Hua Hong Semiconductor y ChangXin Memory Technologies, según el ​reporte, que cita a personas familiarizadas con el ⁠asunto.

ASML se negó a hacer comentarios ante una solicitud de Reuters. Las acciones ‌de la empresa caían más de un 7%, lo que las dejaba rumbo a anotar su peor jornada desde el 8 de junio.

El informe también ​lastraba las acciones de las ‌empresas expuestas a la cadena de suministro mundial de equipos para ⁠chips. BE Semiconductor Industries se desplomaba alrededor de un 8,5%, Soitec caía un 5%, mientras que Infineon Technologies bajaba casi un 3%.

Detalles clave del reporte:

• Las fuentes no identificaron al ⁠fabricante respaldado por el ‌Estado debido a la delicadeza del asunto.

• Este avance podría acabar suponiendo ⁠un reto para ASML en China, pero el sistema aún presenta carencias en cuanto a ‌rendimiento y fiabilidad y necesita más pruebas antes de la producción en ⁠masa, lo que mantiene intactas, por ahora, las ventajas de la empresa ⁠neerlandesa.

• La producción será ‌limitada en un principio, con unas cinco máquinas DUV este año y unas 20 en ​2027.

• Las máquinas DUV de inmersión, que ‌imprimen patrones de circuitos en obleas de silicio, son las herramientas de litografía más avanzadas de las que disponen ​los fabricantes de chips chinos después de que las restricciones les impidieran el acceso a los sistemas de litografía ultravioleta extrema (EUV).

• China también está desarrollando una máquina EUV ⁠propia, aunque aún se encuentra en fase de prototipo.

• Esta tecnología podría proporcionar a los fabricantes chinos de chips una fuente alternativa de equipos críticos, en un momento en que Estados Unidos se plantea imponer restricciones más estrictas a la exportación y el mantenimiento de herramientas de litografía extranjeras en China.

(Reporte de Rashika Singh en Bengaluru; edición de Vijay Kishore; Editado ​en Español por Ricardo Figueroa)

¿Te gustó este contenido? Haz que llegue a más gente.